檢測認證人脈交流通訊錄
- 儀器名稱：ICP等離子體刻蝕機（深硅）
- 價格型號：STS MPX HRM System
- 儀器分類：其它
- 應用領域：
- 所屬單位：中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所
- 所在地點：
- 產 地：
- 產 商：STS
- 價 值：0
- 購置日期：0000-00-00
技術指標：溫度：0-80度，側壁垂直度：89°±1°。工藝氣體：He，SF6,C4F8,O2，Ar。 ICP功率：0-3000W，RF功率：0-300W
儀器用途：主要用于硅材料的高速，深度，大深寬比刻蝕。適用于六寸片及以下尺寸。刻蝕均勻性<±5%。
收費標準：450/30分鐘
機組負責人：張嬪 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
