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        普羅帝測(cè)控中國(guó)有限公司
        
        
		
        

	
        
		
         
  		    		
    		
  			
        

        


        
  


        


        

        


 


        
    
        
        
        檢測(cè)認(rèn)證人脈交流通訊錄
    
        

        




        
	
        
	
        
	
        普洛帝表面塵埃粒子計(jì)數(shù)器P-III
        

	
        
		
        
	
        

	
        
	
        • 這真不是您需要的產(chǎn)品？
        • 品　　牌：
        • 普洛帝
        
	
	
        • 主要規(guī)格：
        • 400*400*400mm
        
	
        • 用　　途：
        • 表面污染的量化監(jiān)測(cè)和控制
        
	
          


          

          

          
            
                
            
                    
            
                    
          • 產(chǎn)品介紹
P-III的表面粒子檢測(cè)器系列通過(guò)以下技術(shù)實(shí)現(xiàn)電子半導(dǎo)體行業(yè)表面污染的量化監(jiān)測(cè)和控制：
核心技術(shù)原理
界面顆粒再懸浮技術(shù)?：采用先進(jìn)界面技術(shù)，通過(guò)物理或氣流方式將附著在關(guān)鍵
表面的顆粒重新懸浮，便于后續(xù)檢測(cè)。
高精度光學(xué)檢測(cè)：基于激光光學(xué)傳感器和光散射原理，實(shí)時(shí)捕獲懸浮粒子的散
射光信號(hào)，實(shí)現(xiàn)單個(gè)粒子尺寸的精確分析。
關(guān)鍵性能指標(biāo)
分辨率達(dá)0.1微米，支持納米級(jí)顆粒檢測(cè)；
配備靜態(tài)采樣模式，提升測(cè)量精度和穩(wěn)定性；符合ISO-14644-9表面粒子控制標(biāo)準(zhǔn)，
滿足半導(dǎo)體制造中對(duì)潔凈度的嚴(yán)苛要求
行業(yè)應(yīng)用優(yōu)勢(shì)
減少50%以上的自?xún)魰r(shí)間及顆粒數(shù)，縮短PM周期，提升制造效率；
通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)表面污染，降低因顆粒導(dǎo)致的良率損失和可靠性風(fēng)險(xiǎn)；
適用于晶圓、光學(xué)元件、精密電路板等對(duì)潔凈度敏感的生產(chǎn)環(huán)節(jié)。
系統(tǒng)集成設(shè)計(jì)
支持USB數(shù)據(jù)導(dǎo)出和軟件升級(jí)，便于與工廠智能管理系統(tǒng)對(duì)接；
采用雙電池?zé)岵灏卧O(shè)計(jì)，適應(yīng)連續(xù)生產(chǎn)環(huán)境的需求。
該系列設(shè)備通過(guò)量化表面污染數(shù)據(jù)，為半導(dǎo)體制造中的過(guò)程控制提供標(biāo)準(zhǔn)化依據(jù)，從而優(yōu)化生產(chǎn)良率和產(chǎn)品可靠性。
傳感器：第七代雙激光窄光檢測(cè)器，壽命>200000次
產(chǎn)品特點(diǎn)
智能化設(shè)計(jì)與操作體驗(yàn)
7英寸高分辨率觸控屏：支持實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)可視化與交互操作，簡(jiǎn)化流程。
雙電池?zé)岵灏蜗到y(tǒng)?：支持連續(xù)生產(chǎn)場(chǎng)景下的不間斷作業(yè)，電池更換無(wú)需停機(jī)。
USB數(shù)據(jù)接口與軟件升級(jí)?：便捷導(dǎo)出檢測(cè)報(bào)告，并可通過(guò)固件更新持續(xù)優(yōu)化性能。
提升制造效率
減少50%自?xún)魰r(shí)間?：通過(guò)量化表面污染數(shù)據(jù)，縮短設(shè)備維護(hù)周期（PM周期），提升產(chǎn)線吞吐量。
延長(zhǎng)MTBC（平均無(wú)故障周期）：結(jié)合顆粒控制策略，關(guān)鍵設(shè)備可靠性提升4倍以上。
覆蓋高潔凈場(chǎng)景
半導(dǎo)體制造：晶圓表面、機(jī)臺(tái)內(nèi)腔等關(guān)鍵區(qū)域的潔凈度驗(yàn)證。
精密光學(xué)與電子：液晶面板、光學(xué)鏡片組件、醫(yī)療器械的表面污染控制。
符合國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)
產(chǎn)品嚴(yán)格遵循ISO-14644-9表面粒子控制規(guī)范，為全球半導(dǎo)體廠商提供標(biāo)準(zhǔn)化檢測(cè)工具。
產(chǎn)品參數(shù)
測(cè)量粒徑:
A  0.3um、2.5um、10um;                            
B  0.3um、(0.5/1.0/2.5/5.0）um、10um;
C  0.3um、0.5um、1.0um、2.5um、5.0m、10um;       
D  0.5um、1.0um、1.5um、2.0um、2.5um、3.0um;
E  0,5um、1.0um、3.0um、5.0um、10.0um、25.0um;   
F  0.1μm,0.2μm,0.3μm,0.5μm,1.0μm,5.0μm;
1、粒徑分布誤差：≤±30%
2、濃度示值誤差：≤±30%
3、重復(fù)相對(duì)偏差：≤±10%FS
4、重疊誤差：≤5%
5、氣體檢測(cè)：可測(cè)氣體濃度（可選配）
6、溫度范圍：-40 ～ 120℃
7、檢定標(biāo)準(zhǔn)：ISO14644-1或 JJF1190
8、氣泵流速：2.83L/min，28.3L/min（可選）；
9、采樣時(shí)間：3、6、9、12、15、30、60秒（可選）；
10、檢測(cè)模式：數(shù)量模式；質(zhì)量模式； 凈效模式；
11、檢測(cè)方式：定時(shí)檢測(cè)、循環(huán)檢測(cè)可設(shè)置     
12、報(bào)警方式：自定義數(shù)量報(bào)警值、質(zhì)量報(bào)警值
13、限值報(bào)警：RS485信號(hào)報(bào)警或外接聲光報(bào)警器
14、法 規(guī) 性：權(quán)限管控、審計(jì)追蹤、電子記錄等
15、合 規(guī) 性：符合ISO 21501-4，JIS B9921
16、通訊接口：RS232、R485、LAN-USB
17、存儲(chǔ)模式：實(shí)時(shí)、定時(shí)存儲(chǔ)可設(shè)置；無(wú)限制
18、打印模式：可選配微型打印機(jī)打印數(shù)據(jù)
19、工作條件：5 ～ 45℃、≤90%RH，無(wú)冷凝
20、多種探針可供選擇
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