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        ETD-2000C 離子濺射/蒸碳一體機

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          • ETD-2000C型在ETD-2000型基礎上,增加了蒸碳附件。適用于分析型掃描電鏡對于不同分析需要的導電膜層制備。 配置參數如下: 儀器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H) 真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm(D×H) 靶(上部電極): 50mm×0.1mm(D×H) 樣品臺: 50mm(D) ,自動旋轉。 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar 微型真空氣閥: 可連接φ3mm軟管 可通入氣體: 多種 工作電壓: 0-1600V (DC)可調 濺射電流: 0-50mA 濺射定時: 1-9999S 蒸碳電流 0-10A(AC) 真空泵: 4L/S兩級機械旋轉泵(極限真空2×10-2mbar) 樣品表面離子清潔(選配)
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