儀器介紹
K550X具有旋轉樣品臺，它也可傾斜，非常適合各種樣品使用。預選擇參數及全自動控制使得精確鍍層及重復厚度沉積更為方便。

使用磁電管靶在低電壓時可提高效率，K550X能得到非常精細的顆粒，由于是冷濺射，所以無需冷卻靶面或樣品臺。

腔室直徑為165 mm（6英寸），非常方便裝載及移走樣品。

儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（或用戶選擇），提供最適合的性能價格比。可選靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。

功能集中在儀器面板上及即插即用電子學設計，最大的“up-time”，這些用戶友好設計滿足了不同學科的用戶需求。

濺射參數可被預先設置，包括氣體放氣針閥，此閥為電磁閥，一旦設置，它就不需要再調節。濺射頭互鎖，系統可容易選配K250鍍碳附件。

本儀器為全自動操作，可控制獨立的真空泵。

主要特點

·高分辨率精細涂層(金顆粒達2 nm)

·均勻厚度沉積(用于掃描電鏡的一般厚度為20nm 或200埃)

·可接膜厚監視器，實時監測鍍覆層厚度

·易操作

·無需冷卻樣品臺

·精確的再次涂層

·適合各種樣品

·膜厚度重復性好

·容易裝載或卸載樣品

·可預設沉積厚度

 技術參數

1.儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H

2.工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H

3.安全鐘罩：聚碳酸酯

4.重量：18公斤

5.靶：60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標準靶面)

6.樣品臺直徑為60 mm，靶面距離40mm，具有傾斜裝置的旋轉臺

7.真空范圍：ATM-1x10-4 mbar

8.沉積電流范圍：0-50mA

9.沉積速率：0-25nm/分

10.濺射時間：0-4 分鐘

11.預設置針閥：控制氬

12.電源：230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)