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        ETD-2000/3000 小型離子濺射儀

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          • ETD-2000/3000型離子濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的,最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實驗電極制作。 常規Au /Pt 金靶 主要特點: 1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表,用以指示、監控儀器狀態; 2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體,獲得最佳鍍膜效果; 3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象; 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用; 5. 根據電場中氣體電離特性,采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。 配置參數: 靶(上部電極):金:直徑:50mm,厚度:0.12mm 真空樣品室: 直徑:160mm,高:120mm 樣品臺及工作距離:高配旋轉樣品臺,簡配固定樣品臺,高度手動調節 濺射面積: Ф50mm,最大放置 真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar 離子電流表: 最大電流:50mA(100mA) 定時器: 最長時間:900S 微型真空氣閥: 可連接φ3mm軟管 可通入氣體: 多種 最高電壓: -1600(-3000)DCV 機械泵: 2L/S (120L/min) 樣品表面離子清潔(選配)

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